赫爾納供應(yīng)德國(guó)technologiemanufaktur元件赫爾納供應(yīng)德國(guó)technologiemanufaktur元件

赫爾納貿(mào)易優(yōu)勢(shì)供應(yīng),德國(guó)總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品，為您提供一對(duì)一好的解決方案，貨期穩(wěn)定。

公司簡(jiǎn)介：

我們了解我們的工藝 - 因?yàn)槲覀兪羌夹g(shù)制造。 2014年 - 在德國(guó)制造

technologie manufaktur光學(xué)元件主要產(chǎn)品：

technologie manufaktur光學(xué)元件

technologie manufaktur光學(xué)元件產(chǎn)品特點(diǎn)：

光學(xué)力學(xué)，即現(xiàn)代光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)建和制造，基于科學(xué)和商業(yè)儀器構(gòu)造的，需要知識(shí)和敏感性。因?yàn)闃?gòu)造須啟用高度準(zhǔn)確的調(diào)整，以便可以將光學(xué)元素在幾微米和拱形分鐘上。

technologie manufaktur光學(xué)元件產(chǎn)品應(yīng)用：

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同時(shí)，完成設(shè)備中敏感元素的位置不再在操作過程中更改，并且抵抗溫度波動(dòng)，振動(dòng)和振動(dòng)。光學(xué)原型制作 - 根據(jù)基于軟件的設(shè)計(jì)和仿真以及面包板上的一個(gè)功能測(cè)試 - technologie manufaktur光學(xué)元件

光學(xué)系統(tǒng)實(shí)際原型的開發(fā)階段?，F(xiàn)在，他已經(jīng)須擁有要的機(jī)械和電氣接口，以便可以準(zhǔn)確測(cè)試其功能。在實(shí)驗(yàn)室和實(shí)際應(yīng)用中進(jìn)行了一次測(cè)試之后，technologie manufaktur光學(xué)元件

通常會(huì)建立二代原型（零序列）（零序列），可以在該原型中進(jìn)行優(yōu)化和更改請(qǐng)求。從現(xiàn)在開始，它只是產(chǎn)品的一小步，盡管零系列的產(chǎn)生通常在二個(gè)原型的實(shí)際測(cè)試中開始。

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原型技術(shù)制造商的光學(xué)原型，光學(xué)原型，即原型的光學(xué)機(jī)械結(jié)構(gòu)及其電子產(chǎn)品的開發(fā)，與技術(shù)制造中實(shí)驗(yàn)室的面包板上的作品平行。因此，我們通常不會(huì)在演示者的構(gòu)造和原型的完成之間花費(fèi)太多時(shí)間。

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我們?cè)O(shè)備齊全的研討會(huì)使我們能夠快速構(gòu)建原型，調(diào)整它并衡量其性能。通過這種方式，我們可以對(duì)鏡片進(jìn)行MTF測(cè)量，從而在透明度上測(cè)量光學(xué)元件的表面，并從紫外線到近紅外吸收光譜。我們使用一個(gè)流動(dòng)箱進(jìn)行無塵的生產(chǎn)。原型所需的是在我們供應(yīng)商的研討會(huì)上制造的。

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如果光學(xué)系統(tǒng)要提供的測(cè)量結(jié)果，則其設(shè)備電子設(shè)備和軟件。電子元素的有解決方案通常是部分高度特定系統(tǒng)要求的佳方法。用于使用的微處理器的固件編程與設(shè)備電子產(chǎn)品的個(gè)別生產(chǎn)密切相關(guān)，并提供了能夠從一開始就適應(yīng)它們的優(yōu)勢(shì)。technologie manufaktur光學(xué)元件

在光學(xué)系統(tǒng)的原型成功通過了功能測(cè)試并成功地在應(yīng)用程序的測(cè)試操作中起作用之后，序列的生產(chǎn)開始。在大多數(shù)情況下，在此階段進(jìn)行的調(diào)整甚至是較小的調(diào)整，但是，不需要進(jìn)行復(fù)雜的測(cè)試。

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在零系列的生產(chǎn)過程中，測(cè)試了所工具和必要的設(shè)備，并在必要時(shí)進(jìn)行配置。單個(gè)工作步驟是詳細(xì)計(jì)劃的，并在生產(chǎn)手冊(cè)中進(jìn)行了仔細(xì)的記錄。還建立了測(cè)試，后來須通過每個(gè)完成的光學(xué)設(shè)備進(jìn)行測(cè)試，并將其結(jié)果記錄在接受報(bào)告設(shè)備。

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光學(xué)設(shè)計(jì)是光學(xué)系統(tǒng)開發(fā)的一個(gè)也是重要的步驟之一，其中使用軟件設(shè)計(jì)光學(xué)設(shè)備，并分析其后期性能。它并不總是須是復(fù)雜的系統(tǒng)：使是合適的目錄Gine也可以顯著提高測(cè)量設(shè)備的性能。

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在算法的幫助下，優(yōu)化了小扁豆和鏡子的半徑，距離和光學(xué)介質(zhì)。耐受性分析表明，需要在操作過程中根據(jù)光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)整精度的光學(xué)區(qū)域具有什么質(zhì)量。這些都是用于光學(xué)機(jī)械終構(gòu)建的不可少的參數(shù)。